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印制电路与印制电子团队

何为教授(团队带头人)

王守绪教授、王翀副教授、周国云副教授、洪延副研究员、陶志华高级工程师、陈苑明讲师、杨文君高级实验师、阮海波/博士后(重庆文理学院非全职)、三名深圳企业博士后(在企业全职)叶国俊、李永妮、李红娇。

团队网站 http://heweigroup.uestc.edu.cn/index.html

研究方向

1、印制电路制造材料及先进技术

2、印制电子制造材料及技术

3、电子化学品合成及应用

4、印制电路与器件系统集成材料及技术

5、3D打印与柔性电子关键材料及应用

6、微纳金属阵列制备技术及应用


学术成果

近五年科研成果:


1.获奖情况

近五年获得各位奖项共计:8项,具体分布为:

国家科学技术进步二等奖一项(2014年)

教育部科学技术进步一等奖一项(2011年)

教育部科学技术进步二等奖一项(2017年)

广东省科学技术进步二等奖二项(2017年)

安徽省科学技术进步三等奖一项(2015年)

四川省科学技术进步奖三等奖一项(2017年)

铜陵市科学技术进步一等奖一项(2015年)

中国产学研合作促进会二等奖一项(2015年)


2.论文情况

2014~2017年,发表SCI/EI论文51篇,其他论文73篇,出版专著/规划教材一部(《印制电路与印制电子先进技术》,上下册,110万字)

年度分布为:

2014年,SCI/EI论文12篇,其他论文21篇;

2015年,SCI/EI论文12篇,其他论文20篇;

2016年,SCI/EI论文10篇,其他论文19篇;出版专著一部(上下册,110万字)

2017年,SCI/EI论文17篇,其他论文13篇;


3.专利情况

2014~2017年,申请专利47件,获得授权专利24件;

年度分布为:

2017年申请专利20件,获得授权专利10件

2016年申请专利9件,获得授权专利7件

2015年申请专利15件,获得授权专利4件

2014年申请专利3件,获得授权专利3件


团队成员 8 人